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光学镀膜的厚度

我们已经知道透光度与镀膜的折射率有关，但是却无关于它的厚度。可是我们若能在镀膜的厚度上下点功夫，会发现反射光A与反射光B相差 nc×2D 的光程差。如果

nc×2D=（N+ 1/2）λ 其中 N= 0，1，2，手机壳光学镀膜，3，4，5..... λ为光在空气中的波长

则会造成该特定波长的反射光有相消的效应，手机壳光学镀膜加工，因此反射光的颜色会改变。

例如，镀膜的厚度若造成绿色光的相消，则反射光会呈现红色的。市面上许多看似红色镜片的望远镜都是用这个原理制作的。尽管如此，透 射光却没有偏红的现象。

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光学镀膜技术:

原子层沉积

与蒸发沉积不同，用于原子层沉积(ALD)的源材料不需要从固体中蒸发出来，而是直接以气体的形式存在。尽管该技术使用的是气体，真空室中仍然需要很高的温度。

在ALD过程中，气相前驱体通过非重叠式的脉冲进行传递，且脉冲具有自限制性。这种工艺拥有独特的化学性设计，手机壳光学镀膜加工厂，每个脉冲只粘附一层，并且对光学件表面的几何形状没有特殊要求。因此这种工艺使得我们可以高度的对镀层厚度和设计进行控制，但是会降低沉积的速率。

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手机壳光学镀膜薄膜沉积的传统方法一直是热蒸发，或采用电阻加热蒸发源或采用电子束蒸发源。薄膜特性主要决定于沉积原子的能量，传统蒸发中原子的能量仅约0.1eV。IAD沉积导致电离化蒸汽的直接沉积并且给正在生长的膜增加活化能，通常为50eV量级。离子源将束流从离子枪指向基底表面和正在生长的薄膜来改善传统电子束蒸发的薄膜特性。